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定期對edi模塊設(shè)備進行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利

作者:特純膜 發(fā)布日期: 瀏覽次數(shù):821次
信息摘要:
反滲透設(shè)備的清洗方法。定期對edi模塊設(shè)備進行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面的污垢,維持膜性能,或當(dāng)反滲透設(shè)備

定期對edi模塊設(shè)備進行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利

一、低壓沖洗反滲透設(shè)備

  反滲透設(shè)備的清洗方法。定期對edi模塊設(shè)備進行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面的污垢,維持膜性能,或當(dāng)反滲透設(shè)備進水SDI突然升高超過5.5以上時,應(yīng)進行低壓沖洗,待SDI值調(diào)至合格后再開機。

二、反滲透設(shè)備停運保護

  由于生產(chǎn)的波動,反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運,短期或長期停運時必須采取保護措施,不適當(dāng)?shù)靥幚頃?dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。短期保存適用于停運15d一下的系統(tǒng),可采用每1-3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。實踐發(fā)現(xiàn),水溫20℃以上時,反滲透設(shè)備中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì),有大量細菌繁殖。

  因此,建議水溫高于20℃時,每2d或1d低壓沖洗一次,水溫低于20℃時,可以每3d低壓沖洗一次,每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所以進出口閥門。

三、反滲透膜化學(xué)清洗

  在正常運行條件下,反滲透膜也可以被無機污垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質(zhì)沉積在膜表面會引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,edi模塊甚至對膜造成不可恢復(fù)的損傷,因此,為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學(xué)清洗。一般3-12個月清洗一次,如果每個月不得不清洗一次,這說明應(yīng)該改善;實際工作時,對軟化水出水硬度有一定的要求。達到此硬度時,雖然尚有部分交換劑具有一定的交換能力,也要停止交換進行再生,按此時計算的離子交換刑的交換能力稱為工作交換容里,單位為mol/m3(濕樹脂K敁然工作容量比全交換容費要低。即使同一類型的交換劑,工作交換容量也是個變值。它與許多因素有關(guān):厴?biāo)|(zhì)和軟水控制標(biāo)準;交換劑粒度和交換劑層高度;再生方式;交換器的構(gòu)造及運行條件等等。edi模塊為了在選型時把上述有關(guān)因素及相互制約的關(guān)系、對工作熔量的影響都考慮進去,設(shè)計部門通過總結(jié)運行數(shù)據(jù),制定了交換器的工藝計算指標(biāo),指導(dǎo)設(shè)計選型。


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